特集論文
島津プラズマ応用成膜装置
島津評論 73〔3・4〕 117～122 (2017.3)
要旨
これまで約35年にわたって，産業機械事業部が開発・製造してきたプラズマ応用成膜装置を紹介する。装置としては，グロー放電を利用したプラズマCVD（Chemical Vapor Deposition）装置や磁場とマイクロ波を利用したECR-CVD装置，ECRスパッタ装置，さらにマイクロ波を応用した表面波プラズマ装置，独自のマルチカソードホロー放電プラズマCVD装置，そして，アーク放電プラズマを利用したカソーディックアーク成膜装置等に利用されている各種プラズマの開発経緯，発生原理とその応用分野を中心に紹介する。
1産業機械事業部 事業開発部
＊島津評論に掲載されている情報は、論文発表当時のものです。記載されている製品は、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。