特集論文
表面波プラズマCVD法を用いた有機EL向け透明封止膜の開発
島津評論 69〔3・4〕 303~312 (2013.3)
要旨
表面波プラズマCVD法により,水蒸気透過率が10-6g/m2/d台以下の優れたバリア性と透明性を併せ持つSiNx膜を100℃以下の低温プロセスで下地に損傷を与えることなく形成することに成功した。さらに得られたSiNx膜を有機EL素子の封止膜に用いて,信頼性加速評価による構造最適化を行った結果,常温常湿条件で5万時間以上素子劣化を起こさない封止膜を得ることができた。
1基盤技術研究所 新技術ユニット 工学博士
2半導体機器事業部 技術部
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