島津評論 Vol.62[1・2](2005)
特集 半導体・FPD・新素材の検査/製造装置

特集論文

表面波プラズマ CVD装置の開発

鈴木正康1猿渡哲也1

島津評論 62〔1・2〕 15~26 (2005.9)

要旨

独自に設計された大面積表面波プラズマ(SWP)源の設計について説明し,さらにプラズマ評価と SWPを利用した低温 CVDプロセス開発について報告する。
プラズマ評価で,SWPが高密度,低温プラズマであることを実証し,特性データを示す。
SWPを利用した CVDで100℃以下でのシリコン窒化膜プロセスと膜質の特性を示す。


1半導体機器事業部 技術部
※所属名は論文作成時のものです。

※島津評論に掲載されている情報は、論文発表当時のものです。記載されている製品は、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。