特集論文
表面波プラズマ CVD装置の開発
島津評論 62〔1・2〕 15～26 (2005.9)
要旨
独自に設計された大面積表面波プラズマ（SWP）源の設計について説明し，さらにプラズマ評価と SWPを利用した低温 CVDプロセス開発について報告する。
プラズマ評価で，SWPが高密度，低温プラズマであることを実証し，特性データを示す。
SWPを利用した CVDで100℃以下でのシリコン窒化膜プロセスと膜質の特性を示す。
1半導体機器事業部 技術部
※所属名は論文作成時のものです。
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