特集論文
イオンビーム成膜装置の開発
島津評論 58〔1・2〕 53～58 (2001.12)
要旨
Nordiko社のイオンビーム技術を導入し，Si薄膜成膜プロセスモジュール，ならびにエッチングプロセスモジュールを開発した。各モジュールは島津製作所のDLC(Diamond-like Carbon)成膜用ECR-CVD(Electron Cyclotron Resonance-Chemical Vapor Deposition)モジュールと組み合わせてクラスターツール方式の薄膜製造装置となった。本装置は次世代GMR(Giant Magnetoresistance)ヘッド用保護膜形成プロセス開発に適用が計画されている。
1産業機械事業部 技術部
※所属名は論文作成時のものです。
※島津評論に掲載されている情報は、論文発表当時のものです。記載されている製品は、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。