島津評論 Vol.55[3・4](1998)
小特集 新素材・半導体の分析・試験II

特集論文

プロセスガスモニタ マスペック(R)SQP-101P

小崎純一郎1中村雅哉1高見芳夫1太田知男1

島津評論 55〔3・4〕 277~285 (1999.3)

要旨

半導体,磁気ディスク等の製造ライン用スパッタ装置において,プロセス中の残留ガスをモニタできるプロセスガスモニタ マスペック(R)SQP-101Pを開発した。

本装置は,コンパクト,容易な操作性,生産ライン用の自動監視が可能などの特長を有している。

本稿では,SQP-101Pの分析性能およびモニタ管理機能について紹介する。


1産業機械事業部 産業機械製造部
※所属名は論文作成時のものです。

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