特集論文
プロセスガスモニタ マスペック(R)SQP-101P
島津評論 55〔3・4〕 277~285 (1999.3)
要旨
半導体,磁気ディスク等の製造ライン用スパッタ装置において,プロセス中の残留ガスをモニタできるプロセスガスモニタ マスペック(R)SQP-101Pを開発した。
本装置は,コンパクト,容易な操作性,生産ライン用の自動監視が可能などの特長を有している。
本稿では,SQP-101Pの分析性能およびモニタ管理機能について紹介する。
1産業機械事業部 産業機械製造部
※所属名は論文作成時のものです。
※島津評論に掲載されている情報は、論文発表当時のものです。記載されている製品は、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。