特集論文
BPSG膜評価用高周波グロー放電発光分析装置の開発
島津評論 55〔3・4〕 235～247 (1999.3)
要旨
LSIの微細化に伴い，製造プロセスにおける平坦化技術の重要性が増している。現在量産中の16M-，64M-DRAMでは，層間絶縁膜の平坦化にBPSG膜のリフロー技術が使われている。このリフロー特性は膜に含まれるホウ素とリンの濃度や深さ分布に依存する。今回著者らは，高速・簡便という利点を持つグロー放電発光分光分析装置(GDS)をベースに，ホウ素とリンのウェーハ面内濃度分布と深さ方向濃度分布が同時に測定できる，BPSG膜の品質管理(QC)用検査装置，BPSGテスタ GDLS-9955を開発した。
本装置では，現場でのQCの合否判定が迅速・簡便に行えるよう，8インチウェーハの自動搬送・自動計測システムを構築した。また，絶縁膜ならびにLSIの信頼度に影響を及ぼす水素も測定できることから，BPSG膜以外の絶縁膜や配線膜，キャパシタ膜等，各種成膜プロセスの評価にも幅広く適用できる。本稿では，システムの概要と，これら応用例について報告する。
1基盤技術研究所
2表面・半導体機器部
3ソフトウェア開発センター
※所属名は論文作成時のものです。
※島津評論に掲載されている情報は、論文発表当時のものです。記載されている製品は、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。