普通論文
ECR プラズマ CVD 法による DLC 膜の成膜と
ハードディスク装置用ヘッドへの応用
ハードディスク装置用ヘッドへの応用
島津評論 54〔2〕 135～142 (1997.8)
要旨
DLC 膜は，硬度，耐磨耗性，耐腐食性，耐電圧特性，耐絶縁性および化学的安定性などに優れた性質を持ち，高機能材料の1つとして注目されている。著者らは，絶縁基板にも成膜可能な，RF バイアス ECR プラズマ CVD 法により，原料ガスにエチレンを使用して DLC 膜を成膜し，ヌープ硬度，ラマンスペクトル，膜中水素濃度などにより膜質の評価を行った。さらにこのDLC 膜を，ハードディスク装置用ヘッド保護膜に応用するため，スパッタリング装置とRF バイアス ECR プラズマ CVD 装置を一台にまとめた，複合成膜装置 DLC-MR2型を開発した。また，この装置により成膜した膜の平滑性を調べた。
1生産技術研究所半導体製造技術開発センター工博
2産業機械事業部産業機械製造部
3航空機器事業部航空機器工場理博
※所属名は論文作成時のものです。
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