次世代の大容量や不揮発性メモリー（DRAMやFeRAM）のキャパシタ膜（BST、PZTなど）に使用される材料をCVDリアクターに供給する装置です。

複数の液体材料と溶剤を高精度で送液する供給部と、液体材料を効率良く気化する気化部から構成されています。