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成膜装置
当社ではCCP、ICP、ECR、SWPといった複数のプラズマ技術を保有しており、PVD、CVD、IBE装置による各種成膜プロセスのソリューションを提案いたします。これまで数多くの量産設備を納入しており、安定した真空搬送技術による信頼性の高い量産装置、また各種実験設備を提供致します。
太陽電池反射防止膜 成膜装置
製品情報
結晶系太陽電池の反射防止膜成膜装置です。低周波CCP(容量結合プラズマ)で高温成膜することにより、高い変換効率を実現します。
第8回日本真空工業会表彰で真空装置部門賞を受賞
DLC成膜装置
製品情報
ECRプラズマを使ったECR-CVDにより、他手法に比べて、より高硬度・高密度のDLC(Diamond Like Carbon)を低温・低ダメージプロセスで成膜可能です。
SWP-CVD
製品情報
低温ラジカル反応を主体としたプロセスです。低温・低ダメージにて高密度・低応力の成膜が可能です。
ECRスパッタリング装置
製品情報
実績あるECR技術をスパッタに転用。
磁性材料の他、酸化膜、窒化膜のプロセスに期待されております。
メンテナンスサービス
下記の対象製品のメンテナンスサービスは
島津エミット株式会社
にて承ります。
プラズマCVD装置
: SLPCシリーズ(SLPC-71Hは除く)、PCVDシリーズ
レーザCVD装置
: LACVDシリーズ
複合形薄膜形成装置
: SLCMシリーズ(SLCM-18以降は除く)
液晶注入装置
: ALISシリーズ