ホーム製品情報真空機器/産業機械太陽電池関連機器 > 太陽電池反射防止膜成膜装置
PRODUCT 真空機器/FPD製造装置
 
太陽電池関連機器
  太陽電池反射防止膜成膜装置
 
MCXS

新開発のホローカソードプラズマソースおよびダイレクトプラズマの採用により、高スループットで低ランニングコスト、かつ高いPID耐性を有する反射防止膜を成膜するプラズマCVD装置「MCXS」を開発しました。
本装置は、高密度プラズマが基板の表面や内部に存在する結晶欠陥を修復し、太陽電池の特性を改善させるため、高変換効率化にも寄与します。

太陽電池反射防止膜成膜装置MCXS
特長
1. 高いPID耐性を実証
産業技術総合研究所における試験は、摂氏25℃、モジュール表面ガラスを水に浸した状態、電圧1000Vという条件下で168 時間実施されました。その結果、当社装置で成膜して製作した太陽電池モジュールにおいて、出力が低下することはありませんでした。本製品は信頼性の高い太陽電池の供給に寄与します。

2. 太陽電池生産能力の向上に貢献
高密度プラズマを生成するホローカソードプラズマソースを新開発し、原料ガスの分解効率を高めることにより、ダイレクトプラズマ方式では業界最高速の成膜レート(100nm/min以上)を実現しました。
またインライン型高速搬送機構により、同クラスの従来品と比べて最高レベルの1時間あたり1,700枚以上という高スループットを実現しており、ライン全体の生産能力の向上に貢献します。

3. 低コストの実現
高速成膜、縦型基板配置による装置の小型化に加えて、メンテナンス周期の長期化により、当社従来機と比べて消費電力が1/3、ランニングコストが1/2であり、維持費・メンテナンス費が低減できます。すなわち、太陽電池を製造するためのエネルギーコストを抑え、原料ガスの使用効率も高めた省エネ設計の製造装置です。

製品に関するお問合せはこちら
※外観および仕様は改良のため、予告なく変更することがあります。
 
太陽電池関連機器に戻る
ページトップに戻る